Установка для нанесения алмазоподобных покрытий
Установка имеет зону нанесения покрытия диаметром 50 см и высотой 60 см. В составе установки 4 углеродных, 2 дуговых и 4 газовых ионных источника.
В вакуумной камере установки расположены газовые ионные источники, предназначенные для предварительной плазменной очистки изделий. Дуговые источники металлической плазмы служат созданию промежуточных слоев для обеспечения необходимой адгезии покрытия к изделию. Несколько источников углеродной плазмы расположены так, чтобы обеспечить максимальную однородность наносимого покрытия на изделия сложной формы.